超纯水设备净化法流程描述

超纯水设备净化法流程描述

　　电子、半导体工业的芯片生产在制作过程中，往往需要使用极其纯净的超纯水。如果纯水水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定的话，会影响到后续工艺的处理效果和使用寿命。此外，晶元清洗和机械碾磨过程中都会产生废水，造成对环境的污染。
　　通过使用超滤、反渗透、EDI和核子级离子交换系统来生产满足需求的超纯水。并将生产过程中所产生的废水经过膜系统的处理进行回收再利用，在很大程度上减少了电子、半导体行业的用水量、降低了生产成本。
　　微电子行业包括了电解电容器生产、电子管生产、显像管和阴极射线管生产、黑白显像管荧光屏生产、液晶显示器的生产、晶体管生产、集成电路生产、电子新材料生产等生产工艺，都需要工业超纯水。传统化学及介质过滤生产超纯水的方法，会因在水中添加各种化学剂，制备过程冗长等各种因素造成产水的不稳定，无法确保长期、稳定的超纯水。
　　采用“物理”净化法(超滤→反渗透→EDI→抛光混床)，使超纯水设备从传统的阳离子交换器、脱碳、阴离子交换器、复合离子交换器等发生了一次革命，从此进入了一个无需再生化学品的时代。膜法制备出来的工业纯水，其纯度可达到18MΩ·CM，且系统稳定，使用寿命长，且生产过程所产生的废水又可回用再生。
 

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